- 2025-11-10
- 2025-09-29
- 2025-09-24
- 2025-09-01
公司广泛应用于真空镀膜、工业炉及半导体专用设备。该设备具有价格低廉、性能稳定、真空度高的特点。它是低投资获得高真空的标准设备。由于主泵无运动部件,设备故障率极低,特别适用于对稳定性有特殊要求的行业。但是,它也具有高能耗的特点。根据客户需求,可选低温冷阱,减少油分子对腔体的污染。
特别说明:
可采用旋片泵、滑阀泵、罗茨机组等作为机组前置系统,并与主泵扩散泵组成高真空系统。小型JK高真空系统可配备移动小车,以满足现场工艺要求。公司致力于工艺与设备的完美配套。
JK高真空系统
公司广泛应用于真空镀膜、工业炉及半导体专用设备。