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晶圆PVD工艺设备
半PVD薄膜设备是公司在半导体领域的第二台量产设备，接受特定客户定制，为国内少数具备蒸发、溅射全生产线生产能力的专业厂家，是未来AMAT、Evatec、Ulvac等企业产品强有力的竞争对手。
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超越系列精密光学镀膜机
该设备以成都光学镀膜机研发的产业链为基础，在核心部件、控制系统、结构设计等方面吸取世界一流产品的技术精华，开发出一系列超越型产品。本设备适用于高精度光通信产品的镀膜: 电膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分束膜、AR膜、各种滤光片、玻璃片和塑料 (树脂) 零件、
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研究热蒸发/磁控溅射
主要功能: 多靶复合磁控溅射镀膜机可满足合金膜，单层膜，多层膜，导电膜，非导电膜和反应溅射的需求。它具有极高的实用性和通用性 (三靶、垂直和共溅射、基板在线清洗等)，可提供高水平的功能膜开发，特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、t
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超越大孔径等离子体刻蚀
本设备主要用于半导体刻蚀，可兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，利用气态化学刻蚀剂与材料反应进行刻蚀，并可将形成的挥发性副产物从衬底上清除，通过真空系统、特别适用于蚀刻熔融石英，硅，光刻胶，聚酰亚胺 (PI) 薄膜，金属等材料。
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研究-PECVD沉积
本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术，在玻璃、硅、石英等金属衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅等功能薄膜，制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件，并且还可用于在工件上制备超硬薄膜。广泛应用于高校、科研院所和企业
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研究-高真空电阻炉
2300 ℃ 高真空高温炉，最高可定制2800 ℃ 高温炉，主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料的真空高温烧结、退火、回火工艺，也可引入保护气氛进行烧结，可用于科学实验和中小批量生产。
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