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PVD700-5000型精密光学镀膜机V2.0
该设备以成都光学镀膜机研发的产业链为基础，在核心部件、控制系统、结构设计等方面吸取世界一流产品的技术精华，开发出一系列超越型产品。本设备适用于高精度光通信产品的镀膜: 电膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分束膜、AR膜、各种滤光片、玻璃片和塑料 (树脂) 零件、¥ 0.00现在购买
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IBD/EBPVD450电子束蒸发镀膜V3.0
主要功能: 多靶复合磁控溅射镀膜机可满足合金膜，单层膜，多层膜，导电膜，非导电膜和反应溅射的需求。它具有极高的实用性和通用性 (三靶、垂直和共溅射、基板在线清洗等)，可提供高水平的功能膜开发，特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、t¥ 0.00现在购买
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PECVD450化学气相沉积V1.0
本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术，在玻璃、硅、石英等金属衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅等功能薄膜，制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件，并且还可用于在工件上制备超硬薄膜。广泛应用于高校、科研院所和企业¥ 0.00现在购买
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cluster集簇复合沉积平台V2.0
本装置采用电阻蒸发、电子束蒸发、离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀制备特殊薄膜。薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒污染等特点，是半导体制造过程中关键工序的核心设备。其技术长期被美国、日本等国家的科技巨头垄断，属于dome...¥ 0.00现在购买
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PVD450有机/无机蒸发镀膜V1.0
形式: 箱式一体机，立式前门，蒸发室和萃取室整体焊接，沉积室由SUS304真空氩弧焊形成，一体机系统，可连接单排双工位手套箱，中间采用DN150超高真空挡板阀切断。¥ 0.00现在购买
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EBPVD500电子束蒸发真空镀膜V1.0
本设备可配备电阻、电子束或电阻电子束复合涂层系统。过流元件全部采用SUS304，真空系统后置，配备标准配置分子泵系统，配备标准工业人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，可以满足工业客户小批量生产和科学研究的需求¥ 0.00现在购买
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IBE/EBPVD500电子束蒸发镀膜V 2.0
该设备是电阻，电子束或电阻电子束复合涂层系统，与IBE等离子蚀刻和在线辅助涂层兼容。过流元件全部采用SUS304，真空系统后置，配备标准配置分子泵系统，配备标准工业人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，可满足工业¥ 0.00现在购买
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PVD350磁控溅射镀膜V1.0
是全封闭的框架结构，真空室是前门打开方式，机柜和主机是一个集成机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料 (SUS304)，箱体尺寸: 不小于 φ350X400mm。设置了DN100观察窗，观察窗位于真空室门的正前方。框架默认为白色 (或铝合金自然色)，门板为白色，四个脚轮可以固定和移动。室体，真空u¥ 0.00现在购买
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PVD450磁控溅射镀膜V2.0
该设备用于制备纳米级单层或多层薄膜，类金刚石碳膜，金属膜，导电膜，半导体膜和非导电膜。它可以实现共溅射，直流和射频兼容。特别适用于科研院所和企业开展功能膜的研发、教学和新产品开发。同时，它可以在微米级粉末上沉积薄膜¥ 0.00现在购买
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PVD900电磁耦合离子镀膜V2.0
设备主要由真空室，真空系统，工件盘系统，烘烤系统，溅射系统，离子轰击系统，充气系统和在线测量系统组成。同时，它与空气压缩气体源和水冷系统相匹配，可以根据客户的要求定制。
特别说明:该设备由公司与中科院某所合作研制，获国家科技进步奖、国家科技发明奖、机械行业科技进步一等奖等国家级奖励，和中国科学院重大装备专项。公司提供一揽子技术解决方案，与合作伙伴共享知识产权。¥ 0.00现在购买
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PVD450磁控溅射镀膜V1.0
该设备用于制备纳米级单层或多层薄膜，类金刚石碳膜，金属膜，导电膜，半导体膜和非导电膜。它可以实现共溅射，直流和射频兼容。适用于科研院所和企业开展功能膜的研发、教学和新产品开发。同时，它可以在微米级的粉末或颗粒上沉积薄膜¥ 0.00现在购买
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PVD450磁控溅射镀膜V3.0
该设备由成都超迈光电科技有限公司与中科院某研究所合作研制，用于制备耐腐蚀、固体保湿、表面强化等功能涂料。¥ 0.00现在购买
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PVD800离子注入及多靶共溅射镀膜V1.0
功能: 可满足合金膜，单层膜，多层膜，导电膜，非导电膜和反应溅射的需求。特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬膜、固体润滑膜、自清洁膜等领域的前沿研究。还具有磁控溅射、离子注入和磁过滤电弧沉积的功能。¥ 0.00现在购买
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IBS900离子束溅射装置V2.0
满足精密光学、 天文、 电学、 激光、 红外、 光通信、 光电器件等领域对精密薄膜得要求 ， 电阻蒸发、 电子束蒸发、 离子源辅助、 离子束沉积等。¥ 0.00现在购买
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PVD320桌面式磁控溅射
教学科研¥ 0.00现在购买
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