- 2025-11-10
- 2025-09-29
- 2025-09-24
- 2025-09-01
- 全框架结构，机柜和主机为分体式结构，框架默认为白色，门板为白色，四个脚轮可以固定和移动。腔体尺寸: & phi;700，& phi;600 (尺寸可根据需要定制)。
- 极限真空度: ≤ 8.0 × 10-5Pa.
- 真空配置: 前置泵2台超高分子泵2台。
- 真空测量。测量范围: 105到10-5Pa.
- 工件盘系统: 具有自转和公转功能，加热温度 ≤ 800 ℃。
- 沉积阴极: 配置4个4英寸溅射阴极和1组电弧源。
- 充气系统: 配置两个送风通道。
- 操作系统和安全监控: 人机界面PLC控制。
离子注入及多靶共溅射镀膜设备
功能: 可满足合金膜，单层膜，多层膜，导电膜，非导电膜和反应溅射的需求。特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬膜、固体润滑膜、自清洁膜等领域的前沿研究。它还具有磁控溅射、离子注入和磁过滤电弧沉积的功能，可以进行
