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RIBE1500大口径干法等离子刻蚀V2.0

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特别适用于大直径，高均匀性和特殊微纳结构的基板蚀刻。最大刻蚀尺寸可达 φ5500mm。通过高密度等离子体和离子浓度校正系统，可以实现基板有效蚀刻区域均匀性高的技术指标，以满足大直径基板的蚀刻要求。、特别适用于蚀刻熔融石英，硅，光刻胶，聚酰亚胺 (PI) 薄膜，金属等材料。