弥补快速发展的短板，进化真空镀膜机技术

在1960年代左右，CVD (化学气相沉积) 被应用于世界硬质合金工具，这是真空镀膜机真空镀膜技术的开始。之后，由于技术相对单一，需要在1000摄氏度以上的高温下进行，有很大的局限性，所以没有得到很大程度的发展。

然而，在1970，PVD (物理气相沉积) 技术的出现改变了行业。在接下来的二三十年里，真空镀膜机的PVD镀膜技术相比以前发展很快。

归根结底，技术优势弥补了许多不足。PVD在环境保护方面，由于在真空密封的腔体中形成了薄膜，对环境的污染可以说是最小的。在颜色方面，各种颜色的光可以满足各种装饰的需要。此外，硬度的表现也强于其他各种方式。它还具有高能量和低温两种特性，再加上广泛的应用范围和几乎任何基材涂层的特性。它增长如此迅速并不奇怪。